
【北京時事】米IT専門メディアのジ・インフォメーションは27日、中国上海に拠点を置く政府系企業が、先端半導体の量産に使われる「液浸型深紫外線(DUV)露光装置」の国内生産を開始したと伝えた。中国と技術覇権を争う米国は半導体の対中輸出規制を強めており、調達を断たれた中国は独自開発を進めてきた。事実なら、中国による半導体製造装置の国産化に向けた一歩となる。
この報道を受け、露光装置の世界生産を事実上独占しているオランダのASMLホールディングの株価が急落。競争激化への懸念が強まり、日米欧市場の動揺も招いた。
企業名は明らかにされていない。ロイター通信は、2023年に設立された上海アイシェンナ・エレクトロニック・テクノロジー・グループ(上海愛晟納電子科技集団)が生産を主導すると伝えている。
報道によれば、中国政府系企業による露光装置の開発は将来的に中国市場でASMLの立場を脅かす可能性がある。ただ、性能は依然としてASML製に劣り、量産化まで時間を要する。今年の生産台数は5台前後、27年は約20台にとどまる見通し。
〔写真説明〕中国半導体メモリー最大手「長※(※森の木3つを金に)存儲技術(CXMT)」の本社=安徽省合肥市(AFP時事)
2026年07月28日 20時16分